Question

【題目】如圖是工業(yè)制取菱鎂礦MgCO3(含雜質(zhì)Al2O3、FeCO3)制取鎂的工藝流程

請回答有關(guān)問題：

（1）菱鎂礦進(jìn)入酸浸池前需要粉碎，目的是 __________________________。

（2）氧化池通入Cl2的目的是氧化 _________________________（填化學(xué)式），工業(yè)上不選用硝酸做氧化劑的原因是_________________和_________________________。

（3）物質(zhì)甲可以是_____________

A、MgO B、Mg（OH）2 C、NaOH溶液 D、稀氨水

（4）由MgCl2溶液制取無水MgCl2的操作方法 __________________________。

（5）當(dāng)Fe3+完全沉淀時(shí)，求最小pH__________。已知：氫氧化鐵ksp=1.0×10-38，離子濃度小于1×10-5 mol/L認(rèn)為沉淀完全

Answer 1

【答案】 增大接觸面積，加快溶解速率 FeCl2 引入雜質(zhì)離子NO3- 產(chǎn)生污染性氣體氮氧化物 AB 在干燥的HCl氣流中加熱蒸干 3

【解析】(1)酸浸前將菱鎂礦粉碎，可以增大接觸面積，加快溶解速率；

(2)為除去溶液中的Fe2+,氧化池通入Cl2的目的是氧化FeCl2，如果用硝酸替換氯氣做氧化劑，則會引入雜質(zhì)離子NO3-，同時(shí)產(chǎn)生污染性氣體氮氧化物；

(3)物質(zhì)甲是調(diào)節(jié)溶液pH，使溶液中Fe3+沉淀完全，根據(jù)除雜不引入新雜質(zhì)的原則，可以選擇MgO或Mg(OH)2 ，故答案為AB；

(4)因加熱能促進(jìn)Mg2+，由MgCl2溶液蒸發(fā)結(jié)晶制取無水MgCl2時(shí)需要在干燥的HCl氣流中加熱蒸干；

(5)ksp=c(Fe3+)×c3(OH-)=1.0×10-38，當(dāng)Fe3+離子濃度小于1×10-5 mol/L認(rèn)為沉淀完全，此時(shí)c(OH-)=1.0×10-11mol/L，pH=3。