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（2013?湛江二模）高爐煉鐵是冶煉鐵的主要方法．
（1）從煉鐵高爐口排出的尾氣中含有一定量的有毒氣體（填化學(xué)式），會(huì)污染空氣．100多年前，人們?cè)�耗巨資改建高爐，結(jié)果尾氣中的該物質(zhì)含量并未減少．高爐煉鐵的主要反應(yīng)方程式為（設(shè)鐵礦石用磁鐵礦）．
（2）已知：①4Fe（s）+3O₂=2Fe₂O₃（s）△H₁
②4Fe₃O₄（s）+O₂（g）=6Fe₂O₃（s）△H₂
③3Fe（s）+2O₂（g）=Fe₃O₄（s）△H₃
則△H₂=（用含上述△H的代數(shù)式表示）．
（3）高鐵酸鈉（Na₂FeO₄）是鐵的一種重要化合物，可用電解法制備，陽(yáng)極材料為鐵，其電解質(zhì)溶液應(yīng)選用 （填H₂SO₄、HNO₃、KOH、NaOH、Na₂SO₄）溶液，原因是，陽(yáng)極反應(yīng)式為．
（4）某溫度下，HX的電離平衡常數(shù)K為1×10^-5．計(jì)算該溫度下0.100mol/L的HX溶液的     H⁺濃度．（平衡時(shí)HX的濃度以0.100mol/L計(jì)，水的電離忽略不計(jì)，寫(xiě)出計(jì)算過(guò)程．）

（2011?順義區(qū)二模）X、Y、Z是中學(xué)化學(xué)常見(jiàn)的三種元素，其中，X、Z位于短周期．常溫下，X單質(zhì)為黃綠色氣體；向含Y離子的溶液中滴加氫氧化鈉溶液，生成白色絮狀沉淀，迅速變?yōu)榛揖G色，最后變?yōu)榧t褐色；Z的最外層電子數(shù)與核外電子總數(shù)之比為3：13．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）Z在元素周期表中的位置是，X單質(zhì)分子的電子式是．
（2）Z單質(zhì)與Y的氧化物在高溫條件下反應(yīng)是冶煉Y單質(zhì)的一種方法，該反應(yīng)化學(xué)方程式是．
（3）含上述元素的某些物質(zhì)常用于處理工業(yè)廢水，部分流程如圖1：
①處理含鉻廢水時(shí)，在反應(yīng)池中Cr₂O₇^2-變?yōu)镃r³⁺，當(dāng)反應(yīng)轉(zhuǎn)移1mol 電子時(shí)，有 mol  Cr₂O₇^2- 轉(zhuǎn)化（計(jì)算結(jié)果保留兩位小數(shù)）．
②含Z化合物可以使水中懸浮顆粒發(fā)生凝聚，原因是（用文字和化學(xué)用語(yǔ)表示）．
③處理含氰廢水時(shí)，CN^-最終轉(zhuǎn)化為兩種無(wú)毒的氣體，該反應(yīng)的離子方程式是．
（4）利用圖2方法電解可得到一種新型凈水劑K₂YO₄，陽(yáng)極的電極反應(yīng)式為．

（2012?長(zhǎng)寧區(qū)一模）Ⅰ．工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．
（1）原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用．精制時(shí)，粗鹽溶于水過(guò)濾后，還要加入的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl（鹽酸）③BaCl₂，這3種試劑添加的合理順序是（填序號(hào)）洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為．（填序號(hào)）（①飽和Na₂CO₃溶液  ②飽和K₂CO₃溶液  ③75%乙醇�、芩穆然�碳）
（2）如圖是離子交換膜（允許鈉離子通過(guò)，不允許氫氧根與氯離子通過(guò)）法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是；NaOH溶液的出口為（填字母）；精制飽和食鹽水的進(jìn)口為（填字母）；干燥塔中應(yīng)使用的液體是．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．
（1）SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為．
（2）SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiHCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）?4SiHCl₃（g）
達(dá)平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為kg．
（3）實(shí)驗(yàn)室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄→ZnSO₄+H₂↑；MnO₂+4HCl（濃）

△

MnCl₂+Cl₂↑+2H₂O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置（填代號(hào)）．
可選用制備氣體的裝置：

（4）采用無(wú)膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣，現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣m³（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）
某工廠生產(chǎn)硼砂過(guò)程中產(chǎn)生的固體廢料，主要含有MgCO₃、MgSiO₃、CaMg（CO₃）₂、Al₂O₃和Fe₂O₃等，回收其中鎂的工藝流程如下：

沉淀物	Fe（OH）3	Al（OH）3	Mg（OH）2
PH	3.2	5.2	12.4

Ⅲ．部分陽(yáng)離子以氫氧化物形式完全沉淀時(shí)溶液的pH見(jiàn)上表，請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）“浸出”步驟中，為提高鎂的浸出率，可采取的措施有（要求寫(xiě)出兩條）．
（2）濾渣I的主要成分是．
Mg（ClO₃）₂在農(nóng)業(yè)上可用作脫葉劑、催熟劑，可采用復(fù)分解反應(yīng)制備：
MgCl₂+2NaClO₃→Mg（ClO₃）₂+2NaCl
已知四種化合物的溶解度（S）隨溫度（T）變化曲線如圖所示：

（3）將反應(yīng)物按化學(xué)反應(yīng)方程式計(jì)量數(shù)比混合制備Mg（ClO₃）₂．簡(jiǎn)述可制備Mg（ClO₃）₂的原因：．
（4）按題（3）中條件進(jìn)行制備實(shí)驗(yàn)．在冷卻降溫析出Mg（ClO₃）₂過(guò)程中，常伴有NaCl析出，原因是：．除去產(chǎn)品中該雜質(zhì)的方法是：．

右圖是鐵粉和水蒸氣反應(yīng)的實(shí)驗(yàn)裝置示意圖
（1）寫(xiě)出該反應(yīng)的化學(xué)方程式
（2）實(shí)驗(yàn)中，D處排出的氣體幾乎點(diǎn)不著，已知該裝置不漏氣，使用的各種藥品沒(méi)有質(zhì)量問(wèn)題，你認(rèn)為氣體點(diǎn)不著的可能原因是（說(shuō)出一點(diǎn)即可）：．

寫(xiě)出下列反應(yīng)的化學(xué)方程式
（1）Al與NaOH溶液反應(yīng)：
（2）Na₂O₂與CO₂反應(yīng)：
（3）寫(xiě)出鐵與水蒸氣反應(yīng)的化學(xué)方程式
（4）寫(xiě)出碳酸鈉水解的離子方程式
（5）苯與溴反應(yīng)的化學(xué)方程式，反應(yīng)類型．