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        1. 試回答下列問(wèn)題:(1)G的名稱為 .A的電子式為 .E中的化學(xué)鍵類型為 .(2)工業(yè)上以A為原料制取E的離子方程式為 .(3)B溶液呈堿性的理由是 . 查看更多

           

          題目列表(包括答案和解析)

          電子儀表部件常用的一種高分子材料DAP的結(jié)簡(jiǎn)式為:X為未知部分的結(jié)構(gòu),各物質(zhì)間有如下轉(zhuǎn)化:

          試根據(jù)下列信息回答相關(guān)問(wèn)題:

          已知:

          (1)A是一種脂肪烴,B的官能團(tuán)的名稱是___________,B生成C的化學(xué)反應(yīng)方程式是_____________。

          (2)D的分子式是,分子內(nèi)所有碳原子共平面,D在一定條件下可以生成五元環(huán)酯,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式是______________。

          (3)F發(fā)生銀鏡反應(yīng)的化學(xué)方程式是_____________________。

          (4)F有多種同分異構(gòu)體。符合下列要求的同分異構(gòu)體共有__________種。

          ①屬于芳香族化合物②能發(fā)生銀鏡反應(yīng)③核磁共振氫譜顯示苯環(huán)上只有一種氫

          (5)G在一定條件下合成高分子化合物N的化學(xué)方程式是________________。

           

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          電子儀表部件常用的一種高分子材料DAP的結(jié)簡(jiǎn)式為:X為未知部分的結(jié)構(gòu),各物質(zhì)間有如下轉(zhuǎn)化:

          試根據(jù)下列信息回答相關(guān)問(wèn)題:

          已知:
          (1)A是一種脂肪烴,B的官能團(tuán)的名稱是___________,B生成C的化學(xué)反應(yīng)方程式是_____________。
          (2)D的分子式是,分子內(nèi)所有碳原子共平面,D在一定條件下可以生成五元環(huán)酯,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式是______________。
          (3)F發(fā)生銀鏡反應(yīng)的化學(xué)方程式是_____________________。
          (4)F有多種同分異構(gòu)體。符合下列要求的同分異構(gòu)體共有__________種。
          ①屬于芳香族化合物②能發(fā)生銀鏡反應(yīng)③核磁共振氫譜顯示苯環(huán)上只有一種氫
          (5)G在一定條件下合成高分子化合物N的化學(xué)方程式是________________。

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          電子儀表部件常用的一種高分子材料DAP的結(jié)簡(jiǎn)式為:X為未知部分的結(jié)構(gòu),各物質(zhì)間有如下轉(zhuǎn)化:

          試根據(jù)下列信息回答相關(guān)問(wèn)題:

          已知:
          (1)A是一種脂肪烴,B的官能團(tuán)的名稱是___________,B生成C的化學(xué)反應(yīng)方程式是_____________。
          (2)D的分子式是,分子內(nèi)所有碳原子共平面,D在一定條件下可以生成五元環(huán)酯,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式是______________。
          (3)F發(fā)生銀鏡反應(yīng)的化學(xué)方程式是_____________________。
          (4)F有多種同分異構(gòu)體。符合下列要求的同分異構(gòu)體共有__________種。
          ①屬于芳香族化合物②能發(fā)生銀鏡反應(yīng)③核磁共振氫譜顯示苯環(huán)上只有一種氫
          (5)G在一定條件下合成高分子化合物N的化學(xué)方程式是________________。

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          在電子工業(yè)中利用鎂制取硅的反應(yīng)為2Mg+SiO22MgO+Si,同時(shí)會(huì)發(fā)生副反應(yīng):2Mg+ SiMg2Si,
          Mg2Si遇鹽酸迅速反應(yīng)生成SiH4(硅烷),SiH4在常溫下是一種不穩(wěn)定、易自燃的氣體。下圖是進(jìn)行
          Mg與SiO2反應(yīng)的實(shí)驗(yàn)裝置。試回答下列問(wèn)題
          (1)由于O2和H2O(g)的存在對(duì)該實(shí)驗(yàn)有不良影響,實(shí)驗(yàn)中應(yīng)通入X氣體作為保護(hù)氣。在A、B、C三種儀器中反應(yīng)開(kāi)始前的 試劑分別是:A__________,B__________,C_________(填序號(hào))。
          ①稀硫酸 ②濃硫酸 ③稀鹽酸 ④石灰石 ⑤純堿 ⑥鋅粒
          (2)實(shí)驗(yàn)開(kāi)始時(shí),必須先通入X氣體,再加熱反應(yīng)物,其理由是__________________;當(dāng)反應(yīng)引發(fā)后,移走酒精燈,反應(yīng)能繼續(xù)進(jìn)行,其原因是_______________。
          (3)反應(yīng)結(jié)束后,待冷卻至常溫時(shí),往反應(yīng)后的混合物中加入稀鹽酸,可觀察到閃亮的火星,產(chǎn)生此現(xiàn)象的原因用化學(xué)方程式表示為:①________________,②________________。
          (4)這樣制得的硅會(huì)混有雜質(zhì)(如SiO2等)而稱粗硅,有人設(shè)計(jì)了如下流程進(jìn)行提純:
          ①操作(I)的名稱是______________________ ②涉及的化學(xué)方程式為_(kāi)______________________

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          ★★★

          飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物發(fā)生下列系列反應(yīng)。圖中的每一方格表示有關(guān)的一種主要反應(yīng)物或生成物(反應(yīng)中加入或生成的水以及生成的其它產(chǎn)物已略去),其中A、B、C、D、E在常溫下均為高中化學(xué)中常見(jiàn)氣態(tài)物質(zhì),X和K是中學(xué)常見(jiàn)的金屬單質(zhì),氧化物Y是一種比較好的耐火材料。H可溶于強(qiáng)酸強(qiáng)堿。

          回答下列問(wèn)題:

          ①W的名稱是                ,G的俗名是                 。

          ②A分子的空間構(gòu)型是                     。

          ③反應(yīng)(3)的化學(xué)方程式是                                               。

          反應(yīng)(4)的化學(xué)方程式是                                               。

          ④飽和鹽溶液W電解的離子方程式是                                    。

          ⑤已知C的燃燒熱為285.8kJ/mol。試寫出C完全燃燒生成液態(tài)物質(zhì)的熱化學(xué)方程式                                                              。

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