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        1. HCl -84.0 查看更多

           

          題目列表(包括答案和解析)

          實(shí)驗(yàn)室需要0.1 mol/L NaOH溶液450 mL和0.5 mol/L硫酸溶液450 mL.根據(jù)這兩種溶液的配制情況回答下列問(wèn)題:

          (1)

          根據(jù)計(jì)算得知,所需質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%、密度為1.84 g/cm3的濃硫酸的體積為_(kāi)_______mL(計(jì)算結(jié)果保留一位小數(shù)).

          (2)

          如圖所示的儀器中配制溶液肯定不需要的是________(填序號(hào)),儀器C的名稱是________,本實(shí)驗(yàn)所需玻璃儀器E的名稱為_(kāi)_______

          (3)

          下列操作中,容量瓶所不具備的功能有(填序號(hào)).

          A.

          配制一定體積準(zhǔn)確濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液

          B.

          長(zhǎng)期貯存溶液

          C.

          用來(lái)加熱溶解固體溶質(zhì)

          D.

          量取一定體積的液體

          (4)

          在配制NaOH溶液實(shí)驗(yàn)中,其他操作均正確.若定容時(shí)仰視刻度線,則所配制溶液濃度________0.1 mol/L(填“大于”“等于”或“小于”,下同).若NaOH溶液未冷卻即轉(zhuǎn)移至容量瓶定容,則所配制溶液濃度________0.1 mol/L.

          (5)

          下圖為實(shí)驗(yàn)室某濃鹽酸試劑瓶標(biāo)簽上的有關(guān)數(shù)據(jù),試根據(jù)標(biāo)簽上的有關(guān)數(shù)據(jù)回答下列問(wèn)題:

          (1)該濃鹽酸中HCl的物質(zhì)的量濃度為_(kāi)_______

          (2)取用任意體積的該鹽酸溶液時(shí),下列物理量中不隨所取體積的多少而變化的是________.

          A.溶液中HCl的物質(zhì)的量

          B.溶液的濃度

          C.溶液中Cl-的數(shù)目

          D.溶液的密度

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          晶體硅是一種重要的非金屬材料.制備純硅的主要步驟如下:
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅   ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl3:Si+3HCl
           300℃ 
          .
           
          SiHCl3+H2
          ③SiHCl3與過(guò)量H2在1000~1100℃反應(yīng)制得純硅.
          已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃.請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
          (1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO↑
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO↑

          (2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為:
          分餾
          分餾

          (3)用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):
          ①裝置B中的試劑是
          濃硫酸
          濃硫酸
          ,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是:
          使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化
          使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化

          ②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是
          英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體
          英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體
          ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是
          高溫下,普通玻璃會(huì)軟化
          高溫下,普通玻璃會(huì)軟化
          ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
          SiHCl3+H2
           高溫 
          .
           
          Si+3HCl
          SiHCl3+H2
           高溫 
          .
           
          Si+3HCl

          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及
          先通一段時(shí)間H2,將裝置中的空氣排盡
          先通一段時(shí)間H2,將裝置中的空氣排盡

          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是
          bd
          bd

          a.碘水b.氯水c.NaOH溶液d.KSCN溶液e.Na2SO3溶液.

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          28.晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:

          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2

          ③SiHCl3與過(guò)量H2在1000~1100℃反應(yīng)制得純硅

          已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。

          請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

          (1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為_(kāi)______________________________。

          (2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為_(kāi)___________________。

          (3)用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):

          ①裝置B中的試劑是_________________________。

            裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_____________________________________。

          ②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)_________________________________________。

          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及______________________________________。

          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是_________________。

          a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液

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          晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:

          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:

          Si+3HClSiHCl3+H2

          ③SiHCl與過(guò)量H2在1 000—1 100℃反應(yīng)制得純硅

          已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自然。

          請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

          (1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為_(kāi)_________________________________________。

          (2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為_(kāi)______。

          (3)用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如圖1-3-8(熱源及夾持裝置略去):

          圖1-3-8

          ①裝置B中的試劑是_______。

          裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_____________________________________________。

          ②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________。

          裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)_____________________________。

          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及_______。

          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是_______。

          a.碘水  b.氯水  c.NaOH溶液  d.KSCN溶液  e.Na2SO3溶液

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          (18分)晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下:

           ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl3:Si+3HCl    SiHCl3+H2

          ③SiHCl3與過(guò)量H2在1000~1100℃反應(yīng)制得純硅。

          已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。

          請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

          (1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為                 。

          (2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為:            。

          (3)用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):

          ①裝置B中的試劑是        ,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是:         

          ②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是       ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是     ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為               

          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及    。

          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是          

          a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液     d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液

           

          查看答案和解析>>

           

          選擇題

          題號(hào)

          1

          2

          3

          4

          5

          6

          7

          8

          9

          10

          答案

          D

          B

          D

          D

          D

          D

          C

          A

          D

          B

          題號(hào)

          11

          12

          13

          14

          15

          16

          17

          18

          19

          20

          答案

          C

          A

          C

          B

          A

          D

          B

          C

          B

          D

          21.(124FeSO4+30HNO3→8Fe(NO33+8Fe2(SO43+3N2O+15H2O

             (2)FeSO4    +5價(jià)N    (3) 得到   4  

          22.(1)>。在亞硫酸氫鈉溶液中,存在HSO3-的電離平衡:HSO3- H++SO32-,還有HSO3-的水解平衡:HSO3-+H2OH2SO3+OH-。由題給信息[SO32-]>[H2SO3]可得出,其水解程度比電離程度弱,所以可確定[H+]>[OH-]。

             (2)含酚酞的氫氧化鈉溶液的紅色褪去,溶液呈無(wú)色。加入少量氫氧化鈉溶液時(shí),只有HSO3-反應(yīng),反應(yīng)的離子方程式為:HSO3-+OH-=SO32-+H2O。

          23.(1)  0.01mol/L. min

             (2) a=0.05 mol/L  圖象如右

             (3) BD

           

           

          24.(1)Br2 ;Fe3+

               (2)

              同學(xué)正確

          選用試劑

          實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象

          第一種方法

          C

          有機(jī)層無(wú)色

          第二種方法

          D

          溶液變紅

             (3)Fe2+;不可以,因?yàn)锽r2和Fe3+都能把I氧化成I2

          25.(1)b;

             (2)將亞鐵離子氧化為鐵離子;

             (3)除去過(guò)量的硫酸;不引入新的雜質(zhì);

             (4)Fe3++3H2O=Fe(OH)3↓+3H+;(條件:加熱)

             (5)抑制Cu2+的水解;產(chǎn)生污染環(huán)境的二氧化硫,硫酸利用率低;加熱,并在稀硫酸中通入氧氣。(注:本題為發(fā)散性試題,如有其它合理答案,酌情給分)

          26.⑴ C6H5-CH-18OH       CH3CH2-    -18OH

          ⑵C6H5-CH-18OH+HCOOHHCO18O-CH-C6H5+H2O

              

          計(jì)算題

          27.(1)0.8mol/L   (2)29.6% 

          附加題

          1.B

          2.C

          3.(1)除去混在氫氣中的酸性氣體

             (2)A   B、C;   將E中的產(chǎn)生的硫酸亞鐵溶液壓入D中

             (3)②

             (4)用氫氧化鈉溶液除去混在氫氣中的酸性氣體;氫氧化鈉溶液重復(fù)使用;用氫氣驅(qū)趕氧氣,防止亞鐵鹽被氧化;等其它合理答案

           

           

           


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