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				如圖3中的甲所示.abcd為導(dǎo)體做成的框架.其平面與水平面成角.質(zhì)量為m的導(dǎo)體棒PQ與ad.bc接觸良好.回路的總電阻為R.整個(gè)裝置放在垂直于框架平面的變化磁場(chǎng)中.磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度B隨時(shí)間t的變化情況如圖3中的乙所示(設(shè)圖甲中B的方向?yàn)檎较?.若PQ始終靜止.關(guān)于PQ與框架間的摩擦力在0-時(shí)間內(nèi)的變化情況.以下對(duì)摩擦力變化情況的判斷可能的是(  )A.一直增大 B.一直減小 C.先減小后增大 D.先增大后減小			【查看更多】
			


		
           
          


		
          
		
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           如圖3中的甲所示，ａｂｃｄ為導(dǎo)體做成的框架，其平面與水平面成角，質(zhì)量為ｍ的導(dǎo)體棒ＰＱ與ａｄ、ｂｃ接觸良好，回路的總電阻為Ｒ，整個(gè)裝置放在垂直于框架平面的變化磁場(chǎng)中，磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度Ｂ隨時(shí)間ｔ的變化情況如圖3中的乙所示（設(shè)圖甲中Ｂ的方向?yàn)檎较颍Ｈ簦校咽冀K靜止，關(guān)于ＰＱ與框架間的摩擦力在0-時(shí)間內(nèi)的變化情況，以下對(duì)摩擦力變化情況的判斷可能的是（　　�。�
          A.一直增大　　B.一直減小　　C.先減小后增大　　D.先增大后減小
             
           
          

			
          
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           如圖3中的甲所示，ａｂｃｄ為導(dǎo)體做成的框架，其平面與水平面成角，質(zhì)量為ｍ的導(dǎo)體棒ＰＱ與ａｄ、ｂｃ接觸良好，回路的總電阻為Ｒ，整個(gè)裝置放在垂直于框架平面的變化磁場(chǎng)中，磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度Ｂ隨時(shí)間ｔ的變化情況如圖3中的乙所示（設(shè)圖甲中Ｂ的方向?yàn)檎较颍Ｈ簦校咽冀K靜止，關(guān)于ＰＱ與框架間的摩擦力在0-時(shí)間內(nèi)的變化情況，以下對(duì)摩擦力變化情況的判斷可能的是（　　　）
          


          A.一直增大　　B.一直減小　　C.先減小后增大　　D.先增大后減小
          


             
          


           
          

			
          
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