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        1. 如圖3中的甲所示.abcd為導(dǎo)體做成的框架.其平面與水平面成角.質(zhì)量為m的導(dǎo)體棒PQ與ad.bc接觸良好.回路的總電阻為R.整個(gè)裝置放在垂直于框架平面的變化磁場(chǎng)中.磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度B隨時(shí)間t的變化情況如圖3中的乙所示(設(shè)圖甲中B的方向?yàn)檎较?.若PQ始終靜止.關(guān)于PQ與框架間的摩擦力在0-時(shí)間內(nèi)的變化情況.以下對(duì)摩擦力變化情況的判斷可能的是( )A.一直增大 B.一直減小 C.先減小后增大 D.先增大后減小 查看更多

           

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           如圖3中的甲所示,abcd為導(dǎo)體做成的框架,其平面與水平面成角,質(zhì)量為m的導(dǎo)體棒PQ與ad、bc接觸良好,回路的總電阻為R,整個(gè)裝置放在垂直于框架平面的變化磁場(chǎng)中,磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度B隨時(shí)間t的變化情況如圖3中的乙所示(設(shè)圖甲中B的方向?yàn)檎较颍H簦校咽冀K靜止,關(guān)于PQ與框架間的摩擦力在0-時(shí)間內(nèi)的變化情況,以下對(duì)摩擦力變化情況的判斷可能的是(  。

          A.一直增大  B.一直減小  C.先減小后增大  D.先增大后減小

             

           

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           如圖3中的甲所示,abcd為導(dǎo)體做成的框架,其平面與水平面成角,質(zhì)量為m的導(dǎo)體棒PQ與ad、bc接觸良好,回路的總電阻為R,整個(gè)裝置放在垂直于框架平面的變化磁場(chǎng)中,磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度B隨時(shí)間t的變化情況如圖3中的乙所示(設(shè)圖甲中B的方向?yàn)檎较颍H簦校咽冀K靜止,關(guān)于PQ與框架間的摩擦力在0-時(shí)間內(nèi)的變化情況,以下對(duì)摩擦力變化情況的判斷可能的是(   )

          A.一直增大  B.一直減小  C.先減小后增大  D.先增大后減小

             

           

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