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          題目列表(包括答案和解析)
          

		
		
          

          


          
	
          				
          
									
          

          		


          

          

          實(shí)驗(yàn)室需要0.1 mol/L　NaOH溶液450 mL和0.5 mol/L硫酸溶液450 mL．根據(jù)這兩種溶液的配制情況回答下列問題：
           

           

          (1)
          		

          

          根據(jù)計(jì)算得知，所需質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98％、密度為1.84 g/cm3的濃硫酸的體積為________mL(計(jì)算結(jié)果保留一位小數(shù))．
          

          

          

          (2)
          		

          

          如圖所示的儀器中配制溶液肯定不需要的是________(填序號)，儀器C的名稱是________，本實(shí)驗(yàn)所需玻璃儀器E的名稱為________
          

          

          

          (3)
          		

          

          下列操作中，容量瓶所不具備的功能有(填序號)．
          

          

          A．
          		

          配制一定體積準(zhǔn)確濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液
          

          

          B．
          		

          長期貯存溶液
          

          

          C．
          		

          用來加熱溶解固體溶質(zhì)
          

          

          D．
          		

          量取一定體積的液體
          

          

          

          (4)
          		

          

          在配制NaOH溶液實(shí)驗(yàn)中，其他操作均正確．若定容時(shí)仰視刻度線，則所配制溶液濃度________0.1 mol/L(填“大于”“等于”或“小于”，下同)．若NaOH溶液未冷卻即轉(zhuǎn)移至容量瓶定容，則所配制溶液濃度________0.1 mol/L．
          

          

          

          (5)
          		

          

          下圖為實(shí)驗(yàn)室某濃鹽酸試劑瓶標(biāo)簽上的有關(guān)數(shù)據(jù)，試根據(jù)標(biāo)簽上的有關(guān)數(shù)據(jù)回答下列問題：
          

          

          (1)該濃鹽酸中HCl的物質(zhì)的量濃度為________
          

          (2)取用任意體積的該鹽酸溶液時(shí)，下列物理量中不隨所取體積的多少而變化的是________．
          

          A．溶液中HCl的物質(zhì)的量
          

          B．溶液的濃度
          

          C．溶液中Cl－的數(shù)目
          

          D．溶液的密度
          

          

          

          

			
          
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          晶體硅是一種重要的非金屬材料．制備純硅的主要步驟如下：
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅   ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl3：Si+3HCl
           300℃ 
          .
           
          SiHCl3+H2
          ③SiHCl3與過量H2在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅．
          已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃．請回答下列問題：
          （1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO↑
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO↑
          ．
          （2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl4（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)-84.7℃），提純SiHCl3采用的方法為：
          分餾
          分餾
          ．
          （3）用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：
          ①裝置B中的試劑是
          濃硫酸
          濃硫酸
          ，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是：
          使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化
          使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化
          ．
          ②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是
          英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體
          英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體
          ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是
          高溫下，普通玻璃會軟化
          高溫下，普通玻璃會軟化
          ，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
          SiHCl3+H2
           高溫 
          .
           
          Si+3HCl
          SiHCl3+H2
           高溫 
          .
           
          Si+3HCl
          ．
          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及
          先通一段時(shí)間H2，將裝置中的空氣排盡
          先通一段時(shí)間H2，將裝置中的空氣排盡
          ．
          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是
          bd
          bd

          a．碘水b．氯水c．NaOH溶液d．KSCN溶液e．Na2SO3溶液．
          

			
          
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          28.晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si+3HClSiHCl3+H2
          ③SiHCl3與過量H2在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅
          已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。
          請回答下列問題：
          (1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為_______________________________。
          (2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃)，提純SiHCl3采用的方法為____________________。
          (3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)：
          ①裝置B中的試劑是_________________________。
            裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_____________________________________。
          ②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為__________________________________________。
          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及______________________________________。
          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_________________。
          a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液
          

			
          
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          晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下： 
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:
          Si+3HClSiHCl3+H2
          ③SiHCl與過量H2在1 000—1 100℃反應(yīng)制得純硅
          已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自然。
          請回答下列問題：
          (1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為__________________________________________。
          (2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為_______。
          (3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如圖1-3-8(熱源及夾持裝置略去)：
          圖1-3-8
          ①裝置B中的試劑是_______。
          裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_____________________________________________。
          ②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________。
          裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________________。
          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及_______。
          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_______。
          a.碘水  b.氯水  c.NaOH溶液  d.KSCN溶液  e.Na2SO3溶液
          

			
          
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          （18分）晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下： 
          


           ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
          


          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl3：Si＋3HCl　　　　SiHCl3＋Ｈ2
          


          ③SiHCl3與過量Ｈ2在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅。
          


          已知SiHCl3能與Ｈ2Ｏ強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。
          


          請回答下列問題：
          


          （1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為　　　　　　　　　　　　　　　　　。 
          


          （2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl4（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)－84.7℃），提純SiHCl3采用的方法為：　　　　　　　　　　　　。
          


          （3）用SiHCl3與過量Ｈ2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：
          


          


          ①裝置Ｂ中的試劑是　　　　　　　　，裝置Ｃ中的燒瓶需要加熱，其目的是：　　　　　　　　　。
          


          ②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置Ｄ中觀察到的現(xiàn)象是　　　　　　　，裝置Ｄ不能采用普通玻璃管的原因是　　　　　，裝置Ｄ中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為　　　　　　　　　　　　　　　。
          


          ③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及　　　　。
          


          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是　　　　　　　　　　
          


          ａ．碘水    ｂ．氯水    ｃ．ＮaＯＨ溶液     ｄ．KSCN溶液    ｅ．Ｎa2ＳＯ3溶液
          


           
          

			
          
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